1844 年，波罗的海德裔俄罗斯科学家卡尔·恩斯特·克劳斯证明戈特弗里德·奥桑制备的化合物含有少量的钌，而这正是克 劳斯同年发现的。克劳斯证明氧化钌含有一种新金属，从不溶于王水的粗铂部分中得到了6克钌。普通氧化钌的特性使钌成为 一种与制造微电子产品所需的半导体加工技术兼容的金属。为了继续微电子的小型化，随着尺寸的变化需要新材料。
钌薄膜的第三个大规模应用是在铜双镶嵌工艺中作为 TaN 和 Cu 之间的结合粘合促进剂和电镀种子层。 铜可以直接电镀到钌 上，与氮化钽相反。铜对 TaN 的粘附也很差，但对 Ru 的粘附很好。钌薄膜在微电子领域有三个主要应用。在实验室环境中 ，铂已被用作 RAM 中的电极，但很难形成图案。钌在化学上与铂相似，保留了 RAM 的功能，以实现所需的电学性能。
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